Colloque Polyray 2015
Polyray 2015 – Oyonnax
La 13ème édition du colloque de l’Association PolyRay s’est déroulée à Oyonnax au sein de l’Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), les 20 et 21 Mai 2015, afin de poursuivre et de pérenniser les échanges autour de la polymérisation sous rayonnement.
Programme :
PolyRay 2015 a abordé les thématiques générales liées à la polymérisation sous rayonnement en mettant en avant les travaux académiques ainsi que les développements industriels récents. Ce colloque sera axé autour des thèmes suivants:
– La photopolymérisation: amorceurs, monomères, procédés: UV, LED, Gamma, e-beam, Plasma…
– Les matériaux et leurs propriétés
– Les applications dont notamment celles concernant les revêtements
Le programme préliminaire est désormais disponible en ligne : PROGRAMME 2015
Organisation du colloque :
Le colloque PolyRay 2015 a été organisé conjointement par l’Association PolyRay et le laboratoire Ingénierie des Matériaux Polymères de l’Université de Lyon (IMP UMR CNRS 5223).
Il a eu lieu à Oyonnax à l’Institut National des Sciences Appliquées de Lyon.
Membres universitaires :
Xavier Allonas (LPIM, Mulhouse),
Xavier Coqueret (ICMR, Reims),
Céline Croutxé-Barghorn (LPIM, Mulhouse),
Etienne Fleury (INSA Lyon),
Christine Joly-Duhamel (ICG, Montpellier),
Philippe Lebaudy (INSA Rouen),
Laurence Lecamp (INSA Rouen),
André Merlin (LERMAB, Epinal)
Membres industriels :
Brigitte Defoort (EADS Astrium),
Jean-Marc Francès (BLUESTAR),
Hartmut Müller (IST France),
Guillaume Pibre (Bluestar Silicones)
Francis Martin (NACRE),
Sophie Rouif (IONISOS),